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尼康LV100ND工業(yè)顯微鏡觀(guān)察方法介紹

簡(jiǎn)要描述:尼康LV100ND工業(yè)顯微鏡觀(guān)察方法介紹



尼康LV100ND/LV100DA-U是采用改良后的CFI60-2光學(xué)系統(tǒng),且擁有特別的高數(shù)值孔徑和長(zhǎng)工作距離設(shè)計(jì)理念光學(xué)系統(tǒng)的工業(yè)型光學(xué)顯微鏡。在將光學(xué)系統(tǒng)經(jīng)過(guò)改良之后,顯微鏡具有更長(zhǎng)的工作距離,好的色差校正性能和更輕的重量。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間:2023-09-11
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:2130

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品牌Nikon/日本尼康產(chǎn)地類(lèi)別進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,石油,制藥,綜合

 

尼康LV100ND工業(yè)顯微鏡觀(guān)察方法介紹

 

尼康LV100ND/LV100DA-U是采用改良后的CFI60-2光學(xué)系統(tǒng),且擁有特別的高數(shù)值孔徑和長(zhǎng)工作距離設(shè)計(jì)理念光學(xué)系統(tǒng)的工業(yè)型光學(xué)顯微鏡。在將光學(xué)系統(tǒng)經(jīng)過(guò)改良之后,顯微鏡具有更長(zhǎng)的工作距離,好的色差校正性能和更輕的重量。

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在工業(yè)的應(yīng)用中,尼康LV100ND/LV100DA-U的觀(guān)察方式多樣化,可支持明場(chǎng)、暗場(chǎng)、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測(cè)量觀(guān)察等多種觀(guān)察方法。滿(mǎn)足不同研究需求的各種用戶(hù)的研究和分析。

下面我們將對(duì)尼康LV100ND的幾種觀(guān)察方法進(jìn)行簡(jiǎn)單介紹。

1、明場(chǎng)


顯微鏡的明場(chǎng)觀(guān)察是最為常見(jiàn)的觀(guān)察方式,幾乎任何顯微鏡都可以實(shí)現(xiàn)這一觀(guān)察方法,是最常規(guī)的觀(guān)察方法,此種觀(guān)察方法多見(jiàn)于病理切片的觀(guān)察和檢驗(yàn)。

2、暗場(chǎng)

暗場(chǎng)觀(guān)察方法其實(shí)就是暗視野照明,此種觀(guān)察方法和明場(chǎng)不同,用戶(hù)在觀(guān)察的過(guò)程中并非直接觀(guān)察到照明的光線(xiàn),而是觀(guān)察被觀(guān)察物的反射或衍射的光線(xiàn)。因此在樣品的周?chē)呛诘?,而樣品是明亮的?/span>

3、偏光

偏光觀(guān)察方法多用于研究透明或不透明各向異性材料的一種觀(guān)察方式,在研究過(guò)程中一些具有雙折射性的樣品,均可以在偏光的觀(guān)察方式下觀(guān)察的清楚,因此在礦業(yè)、工業(yè)以及化學(xué)領(lǐng)域等多有應(yīng)用。

4、微分干涉

微分干涉觀(guān)察方法是利用特制的渥拉斯頓棱鏡來(lái)分解光束。分裂出來(lái)的光束的振動(dòng)方向相互垂直且強(qiáng)度相等,光束分別在距離很近的兩點(diǎn)上通過(guò)被檢物體,在相位上略有差別。由于兩光束的裂距極小,而不出現(xiàn)重影現(xiàn)象,使圖像呈現(xiàn)出立體的三維感覺(jué)。它不僅能觀(guān)察無(wú)色透明的物體,而且圖像呈現(xiàn)出浮雕狀的立體感,并具有相襯鏡檢術(shù)所不能達(dá)到的某些優(yōu)點(diǎn),觀(guān)察效果更為逼真。

5、落射熒光

落射熒光觀(guān)察方式是近代興起的一種或觀(guān)察方式,其工作原理是,激發(fā)光從物鏡向下落射到標(biāo)本表面,即用同一物鏡作為照明聚光器和收集熒光的物鏡。在整個(gè)光路的中還需要載加入一個(gè)分離器,它與光鈾呈45。角,激發(fā)光被反射到物鏡中,并聚集在樣品上這款新式的顯微鏡提供的功能,可滿(mǎn)足不同熒光反應(yīng)產(chǎn)物的需要,因此這款顯微鏡被應(yīng)用在了更廣的范圍內(nèi)。

6、雙光束干涉

雙光束干涉觀(guān)察方法的原理較為簡(jiǎn)單直接,就是采用通過(guò)樣品內(nèi)和樣品外的相干光束產(chǎn)生干涉的方法,把相位差(光程差)轉(zhuǎn)換為振幅(光強(qiáng)度)變化的顯微鏡,根據(jù)干涉圖形可分辨出樣品中的結(jié)構(gòu),并可測(cè)定樣品中一定區(qū)域內(nèi)的相位差或光程差,通常測(cè)定工件加工光潔度及高度差約為1/10波長(zhǎng)的顯微組織。

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